一种集成有原子层沉积工艺的化学气相沉积设备
授权
摘要
本实用新型公开了一种集成有原子层沉积工艺的化学气相沉积设备，其技术方案要点是：包括气相沉积炉，所述气相沉积炉进料口上安装有第一框架，所述第一框架上通过轴承转动安装有两个吸附辊，两个所述吸附辊的一端均通过设有的转动接头连接有负压机构，所述第一框架上设置有倾斜的滑槽，所述滑槽内滑动安装有张力辊，所述张力辊的两端均通过轴承转动安装有固定块，所述固定块上连接有第一伺服电缸，所述第一伺服电缸固定安装在所述第一框架上；通过两个吸附辊有利于通过转动接头与负压机构相连接，方便将薄膜上的灰尘进行吸出，减小灰尘，通过第一伺服电缸调节张力辊的位置，方便对薄膜的张力进行调节，减小褶皱。
基本信息
专利标题 ：
一种集成有原子层沉积工艺的化学气相沉积设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202122898031.1
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2021-11-24
授权号 ：
CN216550691U
授权日 ：
2022-05-17
发明人 ：
王硕
申请人 ：
苏州光筑激光设备有限公司
申请人地址 ：
江苏省苏州市苏州工业园区东旺路8号6幢1楼107室
代理机构 ：
无锡科嘉知信专利代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
陈颖
优先权 ：
CN202122898031.1
主分类号 ：
C23C16/455
IPC分类号 ：
C23C16/455 C23C16/54
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16/00
通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积工艺
C23C16/44
以镀覆方法为特征的
C23C16/455
向反应室输入气体或在反应室中改性气流的方法
法律状态
2022-05-17 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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