一种CVD镀膜装置的衬底
授权
摘要
本实用新型涉及CVD镀膜技术领域，且公开了一种CVD镀膜装置的衬底，包括衬底，所述衬底的前后两面均固定安装有凸起，所述衬底的外侧活动安装有第一夹板，所述第一夹板的一侧活动安装有第二夹板，所述第一夹板和第二夹板的顶部通过连接块固定连接，所述第一夹板和第二夹板的内部均固定安装有固定垫片，所述第二夹板的两端固定安装有支撑块。该CVD镀膜装置的衬底，通过在衬底的外侧包裹有第一夹板和第二夹板，且第一夹板和第二夹板通过连接块和支撑块粘粘连接，便于将第一夹板和第二夹板进行连接，且第一夹板和第二夹板的连接便于将衬底固定安装在第一夹板和第二夹板的内部，通过第一夹板和第二夹板对衬底进行保护，避免衬底受到磨损。
基本信息
专利标题 ：
一种CVD镀膜装置的衬底
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021852820.0
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-08-31
授权号 ：
CN213061018U
授权日 ：
2021-04-27
发明人 ：
因福明沈杰
申请人 ：
昆山福钻新材料科技有限公司
申请人地址 ：
江苏省苏州市昆山市周庄镇崇远路333号A2幢2楼211室
代理机构 ：
南京纵横知识产权代理有限公司
代理人 ：
董成
优先权 ：
CN202021852820.0
主分类号 ：
C23C16/458
IPC分类号 ：
C23C16/458 C23C16/46
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16/00
通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积工艺
C23C16/44
以镀覆方法为特征的
C23C16/458
在反应室中支承基体的方法
法律状态
2021-04-27 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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