高质量氧化铝真空镀膜装置
授权
摘要
本实用新型公开一种高质量氧化铝真空镀膜装置，包括箱体，箱体内侧壁设有一层反射层，箱体内一侧设有支架，支架上从上到下依次设有置物台，支架底部通过转轴和电机相连，支架一侧设有加热装置，加热装置包括加热支架，加热支架上从上到下依次设有加热器，支架的另一侧设有抽气口。本申请有效提高对工件的镀膜效率，提高工件上的镀膜的均匀度，提高镀膜的优化率，提高企业收益。
基本信息
专利标题 ：
高质量氧化铝真空镀膜装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021857690.X
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-08-31
授权号 ：
CN213295485U
授权日 ：
2021-05-28
发明人 ：
周兴
申请人 ：
启东申通电子机械配件有限公司
申请人地址 ：
江苏省南通市启东市汇龙镇新洪南路99号
代理机构 ：
南京正联知识产权代理有限公司
代理人 ：
李寰
优先权 ：
CN202021857690.X
主分类号 ：
C23C14/24
IPC分类号 ：
C23C14/24 C23C14/08 C23C14/50
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/24
真空蒸发
法律状态
2021-05-28 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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