一种电子元器件电镀用预处理装置
授权
摘要
本实用新型公开了一种电子元器件电镀用预处理装置,涉及电镀预处理技术领域。本实用新型包括驱动装置、主体装置、抛光装置、清洗装置以及活化装置,驱动装置包括传送带,主体包括外壳,外壳一表面与传送带一表面连接,抛光装置包括机罩以及转轴,外壳上表面设有若干安装孔,若干转轴一表面分别与若干安装孔连接,清洗装置包括设备箱、输气管以及连接板,外壳上表面设有若干圆孔,若干输气管下表面分别与若干圆孔连接,若干输气管下表面分别与若干连接板上表面连接,活化装置包括入料口,入料口一表面与传送带下表面连接。本实用新型通过加热板对弱酸进行加热,使活化速度更快,活化箱内部弱酸对电子元器件表面进行侵蚀,方可对电子元器件电镀。
基本信息
专利标题 :
一种电子元器件电镀用预处理装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202022000214.2
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2020-09-14
授权号 :
CN213061055U
授权日 :
2021-04-27
发明人 :
毛强华
申请人 :
镇江锦兴表面工程技术有限公司
申请人地址 :
江苏省镇江市新区镇澄路198号镇江电镀环保专业区
代理机构 :
南京创略知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 :
柳强
优先权 :
CN202022000214.2
主分类号 :
C25D5/34
IPC分类号 :
C25D5/34 C25D7/00 B08B3/02 B24B27/00 B24B29/02
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C25
电解或电泳工艺;其所用设备
C25D
覆层的电解或电泳生产工艺方法;电铸;工件的电解法接合;所用的装置
C25D5/00
以工艺方法为特征的电镀;工件的预处理或后处理
C25D5/34
施镀金属表面的预处理
法律状态
2021-04-27 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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