电池片生产用碱刻蚀抛光设备
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摘要

本实用新型公开了电池片生产用碱刻蚀抛光设备,包括支撑架和风机,所述支撑架的上方设置有机体,且机体的内侧从右到左依次设置有喷膜槽、刻蚀槽、第一清洗槽、碱洗槽、第二清洗槽、酸洗槽、第三清洗槽和风干室,所述机体的左侧开设有出料口,且机体的右侧开设有进料口,所述喷膜槽的内侧设置有喷头,所述碱洗槽的内部设置有气缸,且气缸的上方设置有伸缩杆。该电池片生产用碱刻蚀抛光设备,与现有的普通碱刻蚀抛光设备相比,一直使碱洗槽的碱液和酸洗槽内的酸液进行流动,提高反应效率,对产生的气体进行处理,避免污染大气,且设有储液箱,方便补充酸液和碱液,防止碱洗槽内碱液和酸洗槽内酸液浓度下降过快,影响电池片生产效率。

基本信息
专利标题 :
电池片生产用碱刻蚀抛光设备
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202022013709.9
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2020-09-15
授权号 :
CN212625515U
授权日 :
2021-02-26
发明人 :
吴旭锋谢东辰
申请人 :
浙江泰恒新能源有限公司
申请人地址 :
浙江省衢州市开化县华埠镇金山路12号
代理机构 :
代理人 :
优先权 :
CN202022013709.9
主分类号 :
H01L21/67
IPC分类号 :
H01L21/67  H01L31/18  
相关图片
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01L
半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21/00
专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21/67
专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
法律状态
2021-02-26 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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