一种用于真空镀膜设备的简易格栅装置
授权
摘要
本实用新型公开了一种用于真空镀膜设备的简易格栅装置，包括固定板、拉伸气缸、活动杆、活动板，所述固定板固定在真空室抽气口处，在固定板上沿垂直方向设置有多个开口，所述拉伸气缸固定在真空室抽气口的顶板上，拉伸气缸的活塞杆端通过连接套与活动杆连接，所述活动杆延伸至真空室抽气口内，在活动杆上固定有多块活动板，所述活动板与固定板上的开口相匹配，拉伸气缸通过活动杆带动活动板上下移动，从而实现对固定板上的开口的封闭和开启。本实用新型的用于真空镀膜设备的简易格栅装置结构简单、拆卸方便、能耐高温、加工便捷、成本低廉，易损备件都是常规产品，有效降低了生产成本和提高了运行效率。
基本信息
专利标题 ：
一种用于真空镀膜设备的简易格栅装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202022138275.5
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-09-25
授权号 ：
CN214218850U
授权日 ：
2021-09-17
发明人 ：
李国强舒逸刘光斗李赞
申请人 ：
湖南玉丰真空科学技术有限公司
申请人地址 ：
湖南省湘潭市湘潭九华示范区大众东路2号
代理机构 ：
湖南格创知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
张文
优先权 ：
CN202022138275.5
主分类号 ：
C23C14/56
IPC分类号 ：
C23C14/56 C23C14/54 C23C16/54 C23C16/52
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/56
连续镀覆的专用设备；维持真空的装置，例如真空锁定器
法律状态
2021-09-17 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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