一种金刚石MPCVD镀膜设备
授权
摘要
本实用新型涉及金刚石加工技术领域，具体为一种金刚石MPCVD镀膜设备，包括本体，本体的一侧设置有观察窗，本体远离观察窗的一侧设置有散热口，本体靠近散热口的一侧设置有除尘机构，除尘机构包括连接杆，连接杆的外表面开设有滑槽，本体靠近观察窗的一侧对称固定安装有握杆，本体靠近观察窗的一侧设置有进料口，本体的下表面对称固定安装有万向轮，本体的一侧转动连接有控制台，控制台的表面设置有防护机构。本实用新型，通过设置该除尘机构，使得工作人员可以简单方便地对散热口进行清灰，避免了散热口内部难以清理导致散热口堵塞的情况发生，增加了设备的散热效果，保证了镀膜的质量，同时延长了设备的使用寿命。
基本信息
专利标题 ：
一种金刚石MPCVD镀膜设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202022309281.2
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-10-16
授权号 ：
CN214004781U
授权日 ：
2021-08-20
发明人 ：
满卫东龚闯朱长征吴剑波杨武
申请人 ：
上海征世科技股份有限公司
申请人地址 ：
上海市青浦区华浦路500号2幢西侧
代理机构 ：
上海精晟知识产权代理有限公司
代理人 ：
周琼
优先权 ：
CN202022309281.2
主分类号 ：
C23C16/511
IPC分类号 ：
C23C16/511 C23C16/27 B08B1/00
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16/00
通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积工艺
C23C16/44
以镀覆方法为特征的
C23C16/50
借助放电的
C23C16/511
采用微波放电
法律状态
2021-08-20 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载
