一种合金类真空镀膜装置
授权
摘要
本实用新型涉及合金类镀膜技术领域，且公开了一种合金类真空镀膜装置，包括装置本体、四根支撑横杆和喷管，所述装置本体中部的一侧设有镀件进口，所述装置本体中部的另一侧设有镀件出口，所述装置本体的内腔均匀固定连接有分隔板一，所述分隔板一把装置本体的内腔分为镀膜材料加热腔一、镀膜腔和镀膜材料加热腔二，所述镀膜腔的顶部和底部均固定连接有输送装置。该合金类真空镀膜装置，通过电动伸缩杆的设置，电动伸缩杆的伸缩可以改变与之相固定连接的支撑横杆的位置，两个输送装置上的电动伸缩杆的配合使用，可以改变两个输送装置之间的距离，输送装置可以输送不同厚度的镀件，提高了该装置的实用性。
基本信息
专利标题 ：
一种合金类真空镀膜装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202022336564.6
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-10-20
授权号 ：
CN213652631U
授权日 ：
2021-07-09
发明人 ：
戴明光马鸿晨朱菊芬戴为民
申请人 ：
苏州融睿纳米复材科技有限公司
申请人地址 ：
江苏省苏州市高新区通安镇同心路58号
代理机构 ：
南京纵横知识产权代理有限公司
代理人 ：
董成
优先权 ：
CN202022336564.6
主分类号 ：
C23C14/56
IPC分类号 ：
C23C14/56
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/56
连续镀覆的专用设备；维持真空的装置，例如真空锁定器
法律状态
2021-07-09 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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