一种大面积玻璃镀膜用铌平面靶材
授权
摘要
本实用新型公开了一种大面积玻璃镀膜用铌平面靶材，包括靶材，所述靶材的两侧分别连接有外框，且外框的内部连接有可将靶材进行更换的更换机构，本实用新型通过增加了更换机构，解决了喷涂大面积玻璃时拼接大面积的靶材时不稳定的问题，实现了拼接大面积靶材时保证了靶材的稳定性，增加了分隔板，保证了大面积靶材在拼接时缝隙不会过大或者过小，同时在喷涂玻璃时，可能因为喷涂的面积导致有的靶材先使用完成，可以通过更换机构单独对其中用完的靶材进行更换，在外框附近增加了通风管，可以使靶材在镀膜时可以进行散热，避免拼接口温度过高造成靶材损坏。
基本信息
专利标题 ：
一种大面积玻璃镀膜用铌平面靶材
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202022398072.X
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-10-26
授权号 ：
CN213388869U
授权日 ：
2021-06-08
发明人 ：
刘军社
申请人 ：
宝鸡市佳军金属材料有限公司
申请人地址 ：
陕西省宝鸡市高新开发区八鱼镇清庵堡村
代理机构 ：
西安知诚思迈知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
麦春明
优先权 ：
CN202022398072.X
主分类号 ：
C23C14/34
IPC分类号 ：
C23C14/34 C23C14/18
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/34
溅射
法律状态
2021-06-08 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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