一种镀膜用平面电弧靶
授权
摘要
本实用新型提供一种镀膜用平面电弧靶，涉及镀膜技术领域，包括驱动机构，驱动机构顶部的中心处固定安装有卡紧装置，驱动机构的底部焊接有固定架，固定架的内部旋转连接有连接杆，连接杆的底部旋转连接有移动架。本实用新型，旋转手轮，手轮带动反螺杆进行旋转，使矩形块带动正螺杆进行旋转，使两个移动块相里侧或者外侧进行移动，两个移动块带动两个固定架进行移动，两个固定架带动两个连接杆的顶部移动，两个连接杆的顶部分别在固定架的内部旋转，两个连接杆的底部带动两个移动架进行向上或者向下移动，使固定板通过安装架带动靶体进行移动，可以将电弧靶进行调整与待喷件的距离，不同调整镀膜机，节约时间。
基本信息
专利标题 ：
一种镀膜用平面电弧靶
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020665728.7
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-04-27
授权号 ：
CN211947203U
授权日 ：
2020-11-17
发明人 ：
张金宝
申请人 ：
遵化市富森钛金设备有限公司
申请人地址 ：
河北省唐山市遵化市经济开发区龙山工业园
代理机构 ：
北京化育知识产权代理有限公司
代理人 ：
尹均利
优先权 ：
CN202020665728.7
主分类号 ：
C23C14/32
IPC分类号 ：
C23C14/32
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/24
真空蒸发
C23C14/32
爆炸法；蒸发及随后的气化物电离法
法律状态
2020-11-17 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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