双向功率器件
授权
摘要

本申请公开了一种双向功率器件,包括:衬底;外延层,位于衬底上;第一掺杂区,位于外延层中;导电通道,自外延层表面向衬底延伸,并与衬底接触;第一沟槽区的多个沟槽,位于第一掺杂区中,将第一掺杂区分隔为交替的第一类子掺杂区与第二类子掺杂区;栅介质层,覆盖第一沟槽区的多个沟槽的下部侧壁;屏蔽介质层,覆盖第一沟槽区的多个沟槽的上部侧壁;以及栅极导体,位于第一沟槽区的多个沟槽中,并分别与栅介质层和屏蔽介质层接触,其中,栅极导体包括相连的控制栅与屏蔽栅,控制栅与栅介质层接触,屏蔽栅与屏蔽介质层接触。该双向功率器件通过与衬底连接的导电通道降低了器件的体电阻,提升了双向功率器件的性能。

基本信息
专利标题 :
双向功率器件
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202022417356.9
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2020-10-27
授权号 :
CN213660409U
授权日 :
2021-07-09
发明人 :
杨彦涛张邵华
申请人 :
杭州士兰微电子股份有限公司
申请人地址 :
浙江省杭州市黄姑山路4号
代理机构 :
北京成创同维知识产权代理有限公司
代理人 :
蔡纯
优先权 :
CN202022417356.9
主分类号 :
H01L29/06
IPC分类号 :
H01L29/06  H01L27/02  
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法律状态
2021-07-09 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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