一种真空磁控溅射镀膜纯水优化系统及其纯水生产设备
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摘要

本实用新型公开了一种真空磁控溅射镀膜纯水优化系统及其纯水生产设备,该系统包括多条纯水生产线,每一所述纯水生长线均包括用于进水的原水箱、用于生成纯水的处理模块、用于存储纯水的终点水箱和用于提供纯水的供水端,且所述原水箱、处理模块、终点水箱和供水端依次连通;所述多条纯水生产线两两之间通过连通水管连通;所述连通水管与每条所述纯水生产线的连接处设有2个,其中,2个连接处分别为第一连接处和第二连接处,且所述第一连接处位于每条所述纯水生产线的所述处理模块和所述终点水箱之间,所述第二连接处位于每条所述纯水生产线的所述终点水箱和所述供水端之间。本实用新型可有效提高纯水利用率以及提高纯水生产系统的稳定性。

基本信息
专利标题 :
一种真空磁控溅射镀膜纯水优化系统及其纯水生产设备
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202022418218.2
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2020-10-27
授权号 :
CN213506371U
授权日 :
2021-06-22
发明人 :
赵习军余华骏吴壮解孝辉
申请人 :
吴江南玻华东工程玻璃有限公司;中国南玻集团股份有限公司
申请人地址 :
江苏省苏州市吴江经济开发区庞金路
代理机构 :
深圳市精英专利事务所
代理人 :
武志峰
优先权 :
CN202022418218.2
主分类号 :
C02F9/06
IPC分类号 :
C02F9/06  C23C14/35  C02F103/04  
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C02
水、废水、污水或污泥的处理
C02F
水、废水、污水或污泥的处理
C02F9/00
水、废水或污水的多级处理
C02F9/04
至少有一个化学处理步骤
C02F9/06
电化学处理
法律状态
2021-06-22 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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