基片处理装置、喷嘴检查方法和存储介质
实质审查的生效
摘要
本发明的基片处理装置包括：从释放口对下方的基片释放处理液的液喷嘴；对液喷嘴的释放口的附近的全周进行拍摄的拍摄部；和控制部，控制部执行：图像获取控制，其获取在拍摄部中拍摄到的液喷嘴的释放口附近的全周的检查图像；和评价控制，其根据液喷嘴的释放口附近的全周的检查图像，进行附着物在液喷嘴的释放口的附着状态的评价。
基本信息
专利标题 ：
基片处理装置、喷嘴检查方法和存储介质
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114269481A
申请号 ：
CN202080055978.1
公开（公告）日 ：
2022-04-01
申请日 ：
2020-08-04
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
滨田佳志只友浩贵桾本裕一朗羽山隆史
申请人 ：
东京毅力科创株式会社
申请人地址 ：
日本东京都
代理机构 ：
北京尚诚知识产权代理有限公司
代理人 ：
龙淳
优先权 ：
CN202080055978.1
主分类号 ：
B05B15/50
IPC分类号 ：
B05B15/50 G01N21/94
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B05
一般喷射或雾化；对表面涂覆流体的一般方法
B05B
喷射装置；雾化装置；喷嘴
B05B15/00
其他类目中不包括的喷射设备或喷射装置的零件；附件
B05B15/50
清洁设备；防止堆积，干燥或堵塞的设备; 检测排射口是否存在杂质的设备
法律状态
2022-05-31 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : B05B 15/50
申请日 : 20200804
申请日 : 20200804
2022-04-01 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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