狭缝喷嘴以及基板处理装置
授权
摘要
本实用新型提供一种可在具有狭缝状的吐出口的狭缝喷嘴、及包括所述狭缝喷嘴并将处理液涂布在基板上的基板处理装置中，比以往更细致地调整吐出口的开口尺寸的技术。本实用新型的狭缝喷嘴包括：喷嘴本体，通过设置在第一唇部的第一平坦面与设置在第二唇部的第二平坦面隔着间隙相向，而形成呈狭缝状地开口的吐出口；多个第一调整机构，沿着吐出口的长边方向排列，分别使第一唇部相对于第二唇部朝接近方向及分离方向位移；以及多个第二调整机构，沿着长边方向、且使长边方向上的配设位置与第一调整机构不同来排列，分别使第二唇部相对于第一唇部朝接近方向及分离方向位移。
基本信息
专利标题 ：
狭缝喷嘴以及基板处理装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021265579.1
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-07-02
授权号 ：
CN214440464U
授权日 ：
2021-10-22
发明人 ：
安陪裕滋塩田明仁
申请人 ：
株式会社斯库林集团
申请人地址 ：
日本京都府京都市上京区堀川通寺之内上4丁目天神北町1番地之1（邮编：602-8585）
代理机构 ：
北京同立钧成知识产权代理有限公司
代理人 ：
杨文娟
优先权 ：
CN202021265579.1
主分类号 ：
B05C5/02
IPC分类号 ：
B05C5/02
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B05
一般喷射或雾化；对表面涂覆流体的一般方法
B05C
一般对表面涂布流体的装置
B05C5/00
将液体或其他流体物质喷射，灌注或让其流到工件表面的装置
B05C5/02
液体从与工件接触的或几乎接触的一个出口中出来
法律状态
2021-10-22 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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