基板处理装置

专利权人的姓名或者名称、地址的变更

摘要

本发明提供一种基板处理装置及其方法，能够使狭缝喷嘴状态最佳化，抑制涂覆不均。在狭缝喷嘴(41)中，将第一突出部(410)的第一突出面(410a)配置在比第二突出部(411)的第二突出面(411a)仅低高度差D的位置。进行让狭缝喷嘴(41)沿与正式涂覆处理中的狭缝喷嘴(41)的扫描方向((+X)方向)的相反方向((－X)方向)扫描的同时，向作为预备涂覆构件的辊(71)涂覆抗蚀液的预备涂覆处理。进行使通过预备涂覆处理被正常化的狭缝喷嘴(41)沿(+X)方向扫描的同时向基板(90)涂覆抗蚀液的正式涂覆处理。

基本信息

专利标题：

基板处理装置

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

CN101276148A

申请号：

CN200810091385.1

公开（公告）日：

2008-10-01

申请日：

2005-09-29

授权号：

暂无

授权日：

暂无

发明人：

高木善则冈田广司川口靖弘

申请人：

大日本网目版制造株式会社

申请人地址：

日本京都府京都市

代理机构：

隆天国际知识产权代理有限公司

代理人：

马少东

优先权：

CN200810091385.1

主分类号：

G03F7/16

IPC分类号：

G03F7/16 B05C5/02 B05C11/02

IPC结构图谱

G部——物理

G03

摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术

G03F

图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备

G03F7/00

图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备

G03F7/16

涂层处理及其设备

法律状态

2015-04-01 ：

专利权人的姓名或者名称、地址的变更

号牌文件类型代码 : 1602
号牌文件序号 : 101713290673
IPC(主分类) : G03F 7/16
专利号 : ZL2008100913851
变更事项 : 专利权人
变更前 : 大日本网目版制造株式会社
变更后 : 大日本网屏制造株式会社
变更事项 : 地址
变更前 : 日本京都府京都市
变更后 : 日本京都府京都市

2015-04-01 ：

专利权人的姓名或者名称、地址的变更

号牌文件序号 : 101713290674
IPC(主分类) : G03F 7/16
专利号 : ZL2008100913851
变更事项 : 专利权人
变更前 : 大日本网屏制造株式会社
变更后 : 斯克林集团公司
变更事项 : 地址
变更前 : 日本京都府京都市
变更后 : 日本京都府京都市
号牌文件类型代码 : 1602

2011-06-01 ：

授权

2008-11-26 ：

实质审查的生效

2008-10-01 ：

公开

注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。

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