基板处理装置
授权
摘要
本实用新型提供一种基板处理装置，能够缩短从喷嘴去除剩余的处理液所需的时间，并且能够一边抑制被去除的处理液的飞散一边回收处理液。回收从喷嘴去除的剩余的处理液的处理液回收部具有：容器，呈上方开放且具有比喷出口的长度方向的尺寸大的宽度的箱形，在第一喷嘴待机位置设置在喷出口及处理液去除部的下方；膜，呈在长度方向上具有比喷出口大的尺寸的带状，在与长度方向正交的宽度方向上，中央部与容器的内底面抵接并且两端部立起，从下方包围处理液去除部。
基本信息
专利标题 ：
基板处理装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921100847.1
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-07-12
授权号 ：
CN210411380U
授权日 ：
2020-04-28
发明人 ：
安陪裕滋
申请人 ：
株式会社斯库林集团
申请人地址 ：
日本京都府
代理机构 ：
隆天知识产权代理有限公司
代理人 ：
向勇
优先权 ：
CN201921100847.1
主分类号 ：
B05C5/02
IPC分类号 ：
B05C5/02 B05C11/10 B05B15/50
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B05
一般喷射或雾化；对表面涂覆流体的一般方法
B05C
一般对表面涂布流体的装置
B05C5/00
将液体或其他流体物质喷射，灌注或让其流到工件表面的装置
B05C5/02
液体从与工件接触的或几乎接触的一个出口中出来
法律状态
2020-04-28 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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