基板处理装置
专利权人的姓名或者名称、地址的变更
摘要

本发明提供可高精度地检测可能与狭缝喷嘴接触的异物等的狭缝式涂敷机。可挠性平板(61)配置在狭缝喷嘴(1)的行进前方侧(+X侧),激光向平板(61)的后方侧(-X侧)照射。在涂敷处理中在狭缝喷嘴(1)应该行进的基板90上,存在异物等被检测物体(NG)的情况下,在被检测物体(NG)与狭缝喷嘴(1)接触之前,被检测物体(NG)与平板(61)接触。平板(61)一旦与被检测物体(NG)接触,其一部分会发生挠性变形向-X侧相对移动,遮断激光。基于此激光受光量的减少,可以检测出被检测物体(NG)。

基本信息
专利标题 :
基板处理装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN1757440A
申请号 :
CN200510106831.8
公开(公告)日 :
2006-04-12
申请日 :
2005-09-23
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
高木善则
申请人 :
大日本网目版制造株式会社
申请人地址 :
日本京都府
代理机构 :
隆天国际知识产权代理有限公司
代理人 :
高龙鑫
优先权 :
CN200510106831.8
主分类号 :
B05C5/02
IPC分类号 :
B05C5/02  B05C11/02  B05B3/18  
IPC结构图谱
B
B部——作业;运输
B05
一般喷射或雾化;对表面涂覆流体的一般方法
B05C
一般对表面涂布流体的装置
B05C5/00
将液体或其他流体物质喷射,灌注或让其流到工件表面的装置
B05C5/02
液体从与工件接触的或几乎接触的一个出口中出来
法律状态
2015-04-01 :
专利权人的姓名或者名称、地址的变更
号牌文件类型代码 : 1602
号牌文件序号 : 101713296439
IPC(主分类) : B05C 5/02
专利号 : ZL2005101068318
变更事项 : 专利权人
变更前 : 大日本网目版制造株式会社
变更后 : 大日本网屏制造株式会社
变更事项 : 地址
变更前 : 日本京都府京都市
变更后 : 日本京都府京都市
2015-04-01 :
专利权人的姓名或者名称、地址的变更
号牌文件类型代码 : 1602
号牌文件序号 : 101713296440
IPC(主分类) : B05C 5/02
专利号 : ZL2005101068318
变更事项 : 专利权人
变更前 : 大日本网屏制造株式会社
变更后 : 斯克林集团公司
变更事项 : 地址
变更前 : 日本京都府京都市
变更后 : 日本京都府京都市
2011-05-11 :
授权
2006-06-07 :
实质审查的生效
2006-04-12 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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