狭缝喷嘴及基板处理装置
授权
摘要
本实用新型提供一种狭缝喷嘴及基板处理装置，能够在狭缝喷嘴的吐出口的两端部扩大开口尺寸的可调整范围而提高膜厚的均匀性。狭缝喷嘴包括：第一本体部，沿吐出口的长度方向延伸设置；第二本体部，以与第一本体部相向的方式配置而形成吐出口；中央调整机构，在长度方向上的第二本体部的中央区域使第二本体部的前端部相对于第一本体部位移而调整在吐出口的中央区域的开口尺寸；以及两端调整机构，在长度方向上的第二本体部的两端区域使第二本体部的前端部相对于第一本体部位移而调整在吐出口的两端区域的开口尺寸；并且通过两端调整机构而使第二本体部的前端部位移的位移能力高于通过中央调整机构而使第二本体部的前端部位移的位移能力。
基本信息
专利标题 ：
狭缝喷嘴及基板处理装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921053610.2
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-07-08
授权号 ：
CN210449710U
授权日 ：
2020-05-05
发明人 ：
安陪裕滋高村幸宏
申请人 ：
株式会社斯库林集团
申请人地址 ：
日本京都府京都市上京区堀川通寺之内上4丁目天神北町1番地之1（邮编：602-8585）
代理机构 ：
北京同立钧成知识产权代理有限公司
代理人 ：
罗英
优先权 ：
CN201921053610.2
主分类号 ：
B05C5/02
IPC分类号 ：
B05C5/02 B05C11/10
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B05
一般喷射或雾化；对表面涂覆流体的一般方法
B05C
一般对表面涂布流体的装置
B05C5/00
将液体或其他流体物质喷射，灌注或让其流到工件表面的装置
B05C5/02
液体从与工件接触的或几乎接触的一个出口中出来
法律状态
2020-05-05 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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