存储设备和存储单元
公开
摘要

本公开的实施例的存储设备包括:第一电极;第二电极;存储层,在第一电极和第二电极之间提供并且至少包括铜、铝、锆和碲;以及阻挡层,在存储层和第二电极之间提供并且包括浓度至少高于存储层的锆,该阻挡层在与第二电极的界面处具有低于存储层的铜浓度。

基本信息
专利标题 :
存储设备和存储单元
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114365291A
申请号 :
CN202080063752.6
公开(公告)日 :
2022-04-15
申请日 :
2020-08-13
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
水口彻也荒谷胜久
申请人 :
索尼半导体解决方案公司
申请人地址 :
日本神奈川
代理机构 :
中国贸促会专利商标事务所有限公司
代理人 :
秦晨
优先权 :
CN202080063752.6
主分类号 :
H01L27/24
IPC分类号 :
H01L27/24  H01L45/00  
法律状态
2022-04-15 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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