过渡金属硫族化合物单晶及其制备方法
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摘要

本申请属于材料制备技术领域,尤其涉及一种过渡金属硫族化合物单晶及其制备方法。其中,过渡金属硫族化合物单晶的制备方法,包括步骤:获取生长基板,将所述生长基板置于半封闭夹具中,进行退火处理,得到退火后的生长基板;基于气相沉积法,在所述退火后的生长基板表面生成单向排列的过渡金属硫族化合物晶粒,得到取向一致的过渡金属硫族化合物单晶。本申请过渡金属硫族化合物单晶的制备方法,将生长基板置于半封闭夹具中进行高温退火处理,提高生长基板表面原子的重排效率,产生所需的阶梯结构,提高生长基板表面的平整度和有序性,有利于过渡金属硫族化合物晶粒在衬底表面单向排列生长,形成大面积相同取向的面内晶向过渡金属硫族化合物单晶。

基本信息
专利标题 :
过渡金属硫族化合物单晶及其制备方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN113249793A
申请号 :
CN202110452422.2
公开(公告)日 :
2021-08-13
申请日 :
2021-04-26
授权号 :
CN113249793B
授权日 :
2022-04-12
发明人 :
时玉萌
申请人 :
深圳大学
申请人地址 :
广东省深圳市南山区南海大道3688号
代理机构 :
深圳中一联合知识产权代理有限公司
代理人 :
曹柳
优先权 :
CN202110452422.2
主分类号 :
C30B29/46
IPC分类号 :
C30B29/46  C30B29/48  C30B33/02  C30B23/02  
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C30
晶体生长
C30B
单晶生长;共晶材料的定向凝固或共析材料的定向分层;材料的区熔精炼;具有一定结构的均匀多晶材料的制备;单晶或具有一定结构的均匀多晶材料;单晶或具有一定结构的均匀多晶材料之后处理;其所用的装置
C30B29/00
以材料或形状为特征的单晶或具有一定结构的均匀多晶材料
C30B29/10
无机化合物或组合物
C30B29/46
含硫、硒或碲的化合物
法律状态
2022-04-12 :
授权
2021-08-31 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : C30B 29/46
申请日 : 20210426
2021-08-13 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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