极紫外光生成装置和电子器件的制造方法
公开
摘要
本发明提供极紫外光生成装置和电子器件的制造方法。极紫外光生成装置具有：腔；第1分隔壁，其覆盖腔的内部的等离子体生成区域，并具有第1开口；EUV聚光镜，其位于腔的内部且第1分隔壁的外部的第1空间，使在等离子体生成区域产生且通过第1开口后的极紫外光聚光；第1气体供给口，其被形成于腔，向第1空间供给气体；以及气体排放口，其被形成于第1分隔壁，将第1分隔壁的内部的第2空间的气体排放到第1分隔壁的外部且腔的外部。
基本信息
专利标题 ：
极紫外光生成装置和电子器件的制造方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114265285A
申请号 ：
CN202110880235.4
公开（公告）日 ：
2022-04-01
申请日 ：
2021-08-02
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
星野裕大渡边幸雄西坂敏博植田笃神家幸一郎小山内贵幸新美刚太
申请人 ：
极光先进雷射株式会社
申请人地址 ：
日本栃木县
代理机构 ：
北京三友知识产权代理有限公司
代理人 ：
于英慧
优先权 ：
CN202110880235.4
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20 H05H1/24
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2022-04-01 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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