载置台装置、光刻装置以及物品的制造方法
公开
摘要
本发明涉及载置台装置、光刻装置以及物品的制造方法。提供有利于降低第1载置台与第2载置台产生干扰的可能性的技术。一种载置台装置，具备：第1载置台，能够移动；第2载置台，能够在所述第1载置台之上移动；以及控制部，将所述第2载置台相对于所述第1载置台的倾斜量控制成目标倾斜量，在所述载置台装置中，所述控制部根据所述第1载置台的移动区间来设定所述目标倾斜量而控制所述倾斜量。
基本信息
专利标题 ：
载置台装置、光刻装置以及物品的制造方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114326319A
申请号 ：
CN202111147421.3
公开（公告）日 ：
2022-04-12
申请日 ：
2021-09-29
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
大豆生田吉广
申请人 ：
佳能株式会社
申请人地址 ：
日本东京
代理机构 ：
中国贸促会专利商标事务所有限公司
代理人 ：
程晨
优先权 ：
CN202111147421.3
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2022-04-12 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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