发光元件制造方法以及发光元件阵列衬底和显示装置
公开
摘要
提供了一种制造发光元件的方法、以及包括该发光元件的发光元件阵列衬底和显示装置。制造发光元件的方法包括：形成包括多个突起和杆区域的基础衬底，杆区域是除了多个突起之外的剩余区域；在基础衬底上形成缓冲层；在缓冲层上形成包括第一半导体材料层、发光材料层和第二半导体材料层的半导体结构；在半导体结构上形成与杆区域重叠的多个掩模图案；通过利用多个掩模图案去除半导体结构的与多个突起重叠的部分来形成多个元件杆；在多个元件杆中的每个的外表面周围形成绝缘膜；以及将其上形成有绝缘膜的多个元件杆与缓冲层分离。
基本信息
专利标题 ：
发光元件制造方法以及发光元件阵列衬底和显示装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114512575A
申请号 ：
CN202111336980.9
公开（公告）日 ：
2022-05-17
申请日 ：
2021-11-12
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
申美香延基荣金度衡卢敬来安娜丽
申请人 ：
三星显示有限公司
申请人地址 ：
韩国京畿道
代理机构 ：
北京英赛嘉华知识产权代理有限责任公司
代理人 ：
王达佐
优先权 ：
CN202111336980.9
主分类号 ：
H01L33/00
IPC分类号 ：
H01L33/00 H01L33/20 H01L27/15
法律状态
2022-05-17 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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