下表面刷、刷基座及衬底清洗装置
实质审查的生效
摘要
本发明涉及一种下表面刷、刷基座及衬底清洗装置。下表面刷具备基台部、第1清洗部及第2清洗部。第1清洗部从基台部的上表面朝上方突出，且以俯视时通过基台部的几何中心在一个方向延伸的方式，设置在基台部的上表面。第2清洗部从基台部的上表面朝上方突出，且以沿基台部的外缘的方式，设置在基台部的上表面。或者，一对或多对第2清洗部也可从基台部的上表面朝上方突出，且以隔着第1清洗部对向的方式，设置在基台部的上表面。
基本信息
专利标题 ：
下表面刷、刷基座及衬底清洗装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114551291A
申请号 ：
CN202111409730.3
公开（公告）日 ：
2022-05-27
申请日 ：
2021-11-25
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
篠原敬
申请人 ：
株式会社斯库林集团
申请人地址 ：
日本京都
代理机构 ：
北京律盟知识产权代理有限责任公司
代理人 ：
陈甜甜
优先权 ：
CN202111409730.3
主分类号 ：
H01L21/67
IPC分类号 ：
H01L21/67 H01L21/687 B08B1/00 B08B1/02
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01L
半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21/00
专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21/67
专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
法律状态
2022-06-14 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : H01L 21/67
申请日 : 20211125
申请日 : 20211125
2022-05-27 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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