一种用于基板的电镀装置及电镀方法
实质审查的生效
摘要
本发明提出了一种用于基板的电镀装置及电镀方法,电镀装置用于进行基板的电镀,电镀装置具有盛放电解液的电镀腔,待电镀基板置于电镀腔的电解液中并与电源正极连接,待电镀基板的至少一侧具有连接电源负极的阳极板,阳极板与待电镀基板之间具有绝缘板,绝缘板上具有多个通孔。在对基板进行电镀时,绝缘板在电解液中摆动,电镀离子穿过通孔流向基板,并电镀至基板表面。根据本发明提出的用于基板的电镀装置及电镀方法,可以在基板表面产生从整体到局部均处于均匀状态的电场分布,并最终提高基板表面的电镀质量。
基本信息
专利标题 :
一种用于基板的电镀装置及电镀方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114262927A
申请号 :
CN202111412286.0
公开(公告)日 :
2022-04-01
申请日 :
2021-11-25
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
严立巍符德荣李景贤
申请人 :
绍兴同芯成集成电路有限公司
申请人地址 :
浙江省绍兴市越城区银桥路326号1幢1楼113室
代理机构 :
工业和信息化部电子专利中心
代理人 :
华枫
优先权 :
CN202111412286.0
主分类号 :
C25D17/00
IPC分类号 :
C25D17/00 C25D17/06 C25D7/12 C25D21/00
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C25
电解或电泳工艺;其所用设备
C25D
覆层的电解或电泳生产工艺方法;电铸;工件的电解法接合;所用的装置
C25D17/00
电解镀覆用电解槽的结构件、或其组合件
法律状态
2022-04-19 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : C25D 17/00
申请日 : 20211125
申请日 : 20211125
2022-04-01 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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