一种新型可调腔室温度的物理气相镀膜设备
实质审查的生效
摘要
本发明公开了一种新型可调腔室温度的物理气相镀膜设备,其技术方案要点是:包括镀膜室,镀膜室内固定有用于放置待镀晶圆的阳极板和用于固定靶材的阴极板,阳极板和阴极板之间形成有镀膜区域,阳极板内开设有凹槽,凹槽处固定有进气管,进气管的一端位于镀膜室外部,进气管端部拆卸连接有通气管,镀膜室的外部固定有真空泵,真空泵的吸气口通过抽气管伸入至镀膜室内部,镀膜室的内壁上固定有固定环罩,固定环罩内设置有螺旋水路,螺旋水路上连通固定有第一管路,第一管路端部固定有第二管路;本新型可调腔室温度的物理气相镀膜设备可方便的实现对镀膜室的均匀温控以及对镀膜室的压控,能够便于进行生产控制。
基本信息
专利标题 :
一种新型可调腔室温度的物理气相镀膜设备
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114277349A
申请号 :
CN202111623117.1
公开(公告)日 :
2022-04-05
申请日 :
2021-12-28
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
季中伟
申请人 :
无锡展硕科技有限公司
申请人地址 :
江苏省无锡市梁溪区会北路26-18
代理机构 :
无锡科嘉知信专利代理事务所(普通合伙)
代理人 :
顾翰林
优先权 :
CN202111623117.1
主分类号 :
C23C14/35
IPC分类号 :
C23C14/35 C23C14/54 C23C14/56
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C23
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/34
溅射
C23C14/35
利用磁场的,例如磁控溅射
法律状态
2022-04-22 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : C23C 14/35
申请日 : 20211228
申请日 : 20211228
2022-04-05 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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