一种光刻提高对准精度的异向多点同步错位对准法
实质审查的生效
摘要
本发明涉及光刻技术领域，具体来说是一种光刻提高对准精度的异向多点同步错位对准法，包括两个或两个以上基准点1和对准点2，具体如下：a.将实际基准点相对于目标基准点1偏位设置，偏移的距离小于等于目标基准点1的可接受误差半径;b.将多个实际基准点相对于目标基准点1偏离方向异向设置，所述的异向设置是多个实际基准点相对于目标基准点偏移圆心方向相反设置;c.将对准点与实际基准点对准。本发明同现有技术相比，其优点在于：克服了现有技术的偏见，解决了光学波长等技术的限制，将对准点和基准点人为偏置，降低对准误差，提高对准精度，设置点数越多，相互的牵制约束越多。
基本信息
专利标题 ：
一种光刻提高对准精度的异向多点同步错位对准法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114415484A
申请号 ：
CN202111653024.3
公开（公告）日 ：
2022-04-29
申请日 ：
2021-12-31
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
李荣宝
申请人 ：
上海大溥实业有限公司
申请人地址 ：
上海市松江区泖港镇中业路28号
代理机构 ：
上海三方专利事务所(普通合伙)
代理人 ：
吴干权
优先权 ：
CN202111653024.3
主分类号 ：
G03F9/00
IPC分类号 ：
G03F9/00
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F9/00
原版、蒙片、片框、照片、图纹表面的对准或定位，例如自动地
法律状态
2022-05-20 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G03F 9/00
申请日 : 20211231
申请日 : 20211231
2022-04-29 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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