一种真空镀膜机
授权
摘要
本实用新型公开了一种真空镀膜机，包括镀膜腔，镀膜腔的底部安装有坩埚和电子枪，镀膜腔的顶部旋转安装有自转架，自转架由旋转动力装置驱动，镀膜腔的一侧设置有冷却腔体，冷却腔体上固定有冷泵连接法兰，冷泵连接法兰上设置有抽气口，冷却腔体内在冷泵连接法兰处安装有阀座，该阀座将冷却腔体分隔成第一腔室和第二腔室，冷泵连接法兰的外部安装有与第二腔室联通的冷泵，冷却腔体上滑动有阀瓣，阀瓣由第一开闭动力装置驱动；冷却腔体上设置有与第一腔室联通的抽真空管接口，所述抽真空管接口与抽真空系统连通。该真空镀膜机真空的形成时间更短。
基本信息
专利标题 ：
一种真空镀膜机
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202122444802.X
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2021-10-12
授权号 ：
CN216514092U
授权日 ：
2022-05-13
发明人 ：
刘毅黄鹏飞
申请人 ：
江苏晋誉达半导体股份有限公司
申请人地址 ：
江苏省苏州市张家港经济技术开发区福新路2号
代理机构 ：
苏州金项专利代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
金星
优先权 ：
CN202122444802.X
主分类号 ：
C23C14/30
IPC分类号 ：
C23C14/30 C23C14/56 C23C14/50 C23C14/54
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/24
真空蒸发
C23C14/28
波能法或粒子辐射法
C23C14/30
电子轰击法
法律状态
2022-05-13 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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