上膜机
授权
摘要
本实用新型实施例公开了一种上膜机，包括第一上膜件、第二上膜件、收集件以及用于连接第一上膜件和第二上膜件的本体，第二上膜件可相对于第一上膜件运动从而对第一上膜件进行上膜，收集件间隔设置在第一上膜件和第二上膜件的下方，收集件上设有收纳槽，第一上膜件和第二上膜件在收集件上的投影落在收纳槽内。在上膜的过程中乳剂会掉落到收纳槽内，方便清理。相对于传统的上膜机中没有收集件，在上膜的过程中乳剂会掉落，不方便清理的方案，本方案的上膜机中收集件间隔设置在第一上膜件和第二上膜件的下方，且第一上膜件和第二上膜件在收集件上的投影落在收纳槽内，在上膜的过程中乳剂会掉落到收纳槽内，方便清理。
基本信息
专利标题 ：
上膜机
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202123142146.4
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2021-12-14
授权号 ：
CN216622956U
授权日 ：
2022-05-27
发明人 ：
陈广牛俊杰
申请人 ：
竞华电子（深圳）有限公司
申请人地址 ：
广东省深圳市宝安区沙井街道东塘社区西环路工业区1栋竞华电子
代理机构 ：
深圳中细软知识产权代理有限公司
代理人 ：
徐春祺
优先权 ：
CN202123142146.4
主分类号 ：
G03F7/16
IPC分类号 ：
G03F7/16 H05K3/00
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/16
涂层处理及其设备
法律状态
2022-05-27 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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