制作射线平版印刷用的掩膜的方法

专利权的终止未缴年费专利权终止

摘要

一种制作射线平版印刷用的掩膜的方法，该掩膜有一个掩膜支持体和一个基底，基底上有一层按所要的掩膜图样而制作的吸收剂层，氧含量在21-29原子百分比之间的部分氧化的钨吸收剂层的最佳厚度在0.2-1.2微米范围内，吸收剂层最好用阴极溅射的方法沉积到基底上。

基本信息

专利标题：

制作射线平版印刷用的掩膜的方法

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

CN1031900A

申请号：

CN88107055.6

公开（公告）日：

1989-03-22

申请日：

1988-09-03

授权号：

CN1025379C

授权日：

1994-07-06

发明人：

安吉莉卡·布伦·斯沃尔德马·戈茨玛格列特·哈姆斯雷尔格·路夫耶

申请人：

菲利浦光灯制造公司

申请人地址：

荷兰艾恩德霍芬

代理机构：

中国专利代理(香港)有限公司

代理人：

叶凯东

优先权：

CN88107055.6

主分类号：

G03F7/26

IPC分类号：

G03F7/26 G03F7/16 H01L21/31

IPC结构图谱

G部——物理

G03

摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术

G03F

图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备

G03F7/00

图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备

G03F7/26

感光材料的处理及其设备

法律状态

1999-10-27 ：

专利权的终止未缴年费专利权终止

1997-12-24 ：

著录项目变更

变更事项 : 专利权人
变更前 : 菲利浦光灯制造公司
变更后 : 菲利浦电子有限公司

1994-07-06 ：

授权

1989-03-22 ：

公开

注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。

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