一种适用于不同光刻机的光罩
授权
摘要
本实用新型公开了一种适用于不同光刻机的光罩，包括光罩本体，所述光罩本体上设置有被不同光刻机识别的对位标记。本实用新型的目的在于提供一种适用于不同光刻机的光罩，该光罩可用于被不同的光刻机识别，从而在进行光刻时，可根据被光刻图像的精度或复杂度选择合适的光刻机进行组合光刻，从而降低光刻成本提高光刻效率。
基本信息
专利标题 ：
一种适用于不同光刻机的光罩
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202123377703.0
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2021-12-29
授权号 ：
CN216748436U
授权日 ：
2022-06-14
发明人 ：
刘玉闯林伟
申请人 ：
成都路维光电科技有限公司
申请人地址 ：
四川省成都市高新区康强三路1666号
代理机构 ：
成都行之专利代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
张杨
优先权 ：
CN202123377703.0
主分类号 ：
G03F1/42
IPC分类号 ：
G03F1/42
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1/00
用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1/38
具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
G03F1/42
校准或对齐特征，例如掩膜基板上的校准标记
法律状态
2022-06-14 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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