一种多晶硅还原炉的底盘进出气结构
授权
摘要

本实用新型涉及多晶硅生产设备技术领域,尤其涉及一种多晶硅还原炉的底盘进出气结构,其包括:底盘、冷却水管、排气管和进气管;底盘上设置有冷却水腔;底盘上设置有连接孔;连接孔包括:第一孔和第二孔;第二孔与第一孔同轴设置;第一孔和第二孔将底盘的上侧和底盘的下侧连通;第二孔的直径较第一孔的直径大;多个连接孔以底盘的圆心为中心阵列设置;冷却水管与第二孔连接,通过第二孔与冷却水腔连通;排气管嵌套在冷却水管内;排气管与第一孔连接,通过第一孔与底盘的上侧连通;进气管嵌套在排气管内;进气管的一端延伸至底盘的上侧;进气管的一端设置有喷嘴。采用本实用新型能够改善还原炉内硅芯的沉积反应效果,节约能耗。

基本信息
专利标题 :
一种多晶硅还原炉的底盘进出气结构
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202123443359.0
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2021-12-31
授权号 :
CN216687510U
授权日 :
2022-06-07
发明人 :
邹仁苏
申请人 :
新疆大全新能源股份有限公司
申请人地址 :
新疆维吾尔自治区石河子经济开发区化工新材料产业园纬六路16号
代理机构 :
北京鼎佳达知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 :
孟阿妮
优先权 :
CN202123443359.0
主分类号 :
C01B33/035
IPC分类号 :
C01B33/035  
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C01
无机化学
C01B
非金属元素;其化合物
C01B33/00
硅; 其化合物
C01B33/02
C01B33/021
制备
C01B33/027
使用除二氧化硅或含二氧化硅物料以外的气态或汽化的硅化合物的分解或还原
C01B33/035
在存在硅、碳或耐熔金属的热丝情况下,或在存在热硅棒情况下,用气态或汽化的硅化合物的分解或还原
法律状态
2022-06-07 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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