一种具有防护功能的腔室PECVD设备传动装置
实质审查的生效
摘要
本发明涉及高频PCB集成电路板真空处理技术领域，具体公开了一种具有防护功能的腔室PECVD设备传动装置，包括真空溅射室、一端与真空溅射室连接的且沿其长方向设置有传输机构的输送通道、与输送通道另外一端连接的真空后处理室、安装在真空溅射室内的输送机构一、安装在真空后处理室内的输送机构二。本发明能够有效的避免元器件从真空溅射室转运到真空后处理室过程中接触氧气，避免其发生氧化。
基本信息
专利标题 ：
一种具有防护功能的腔室PECVD设备传动装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114481098A
申请号 ：
CN202210047443.0
公开（公告）日 ：
2022-05-13
申请日 ：
2022-01-17
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
苏斌张威黄深荣童杨
申请人 ：
成都四威高科技产业园有限公司
申请人地址 ：
四川省成都市高新西区百草路1181号
代理机构 ：
成都九鼎天元知识产权代理有限公司
代理人 ：
贾林
优先权 ：
CN202210047443.0
主分类号 ：
C23C16/54
IPC分类号 ：
C23C16/54 C23C16/50 C23C14/56 C23C14/34
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16/00
通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积工艺
C23C16/44
以镀覆方法为特征的
C23C16/54
连续镀覆的专用设备
法律状态
2022-05-31 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : C23C 16/54
申请日 : 20220117
申请日 : 20220117
2022-05-13 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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