一种声光耦合衬底、器件及器件制备方法
实质审查的生效
摘要
本申请公开了一种声光耦合衬底、器件及器件制备方法，其中，一种声光耦合衬底，包括依次层叠设置的衬底层、介质层、声学层和光学层：衬底层的材料包括硅；介质层的材料包括二氧化硅；声学层的材料包括高质量氮化铝，高质量是指在X射线衍射测试中，晶向半高宽小于150弧秒；光学层的材料包括碳化硅。本声光耦合衬底、器件通过直接键合形成，改善了目前利用离子束技术制备硅基碳化硅薄膜的离子损伤的问题，同时实现了硅基高单晶质量的声学器件层和光学器件层的晶圆级异质集成。
基本信息
专利标题 ：
一种声光耦合衬底、器件及器件制备方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114527587A
申请号 ：
CN202210099645.X
公开（公告）日 ：
2022-05-24
申请日 ：
2022-01-27
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
欧欣伊艾伦
申请人 ：
中国科学院上海微系统与信息技术研究所
申请人地址 ：
上海市长宁区长宁路865号
代理机构 ：
广州三环专利商标代理有限公司
代理人 ：
王若愚
优先权 ：
CN202210099645.X
主分类号 ：
G02F1/11
IPC分类号 ：
G02F1/11
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02F
用于控制光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置，例如转换、选通、调制或解调，上述器件或装置的光学操作是通过改变器件或装置的介质的光学性质来修改的；用于上述操作的技术或工艺；变频；非线性光学；光学逻辑元件；光学模拟/数字转换器
G02F1/00
控制来自独立光源的光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置，例如，转换、选通或调制；非线性光学
G02F1/01
对强度、相位、偏振或颜色的控制
G02F1/11
基于声—光元件的，例如，利用声或类似的机械波的可变衍射作用
法律状态
2022-06-10 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G02F 1/11
申请日 : 20220127
申请日 : 20220127
2022-05-24 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载
