一种旋转式中间预热磁控溅射靶装置
实质审查的生效
摘要
本发明提供了一种旋转式中间预热磁控溅射靶装置，其中包括支架装置、支架下电机、靶装置、靶腔下置的推出装置及中间加热板装置。架装置和支架下电机来进行固定传导旋转及电阻丝预热，靶装置内中间加热板的电阻丝进行预热，靶材更换时通过推出装置的滑道把靶材推出进行更换。
基本信息
专利标题 ：
一种旋转式中间预热磁控溅射靶装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114481072A
申请号 ：
CN202210142806.9
公开（公告）日 ：
2022-05-13
申请日 ：
2022-02-16
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
潘家敬谷雨
申请人 ：
青岛科技大学
申请人地址 ：
山东省青岛市崂山区松岭路99号
代理机构 ：
青岛中天汇智知识产权代理有限公司
代理人 ：
孟琦
优先权 ：
CN202210142806.9
主分类号 ：
C23C14/35
IPC分类号 ：
C23C14/35
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/34
溅射
C23C14/35
利用磁场的，例如磁控溅射
法律状态
2022-05-31 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : C23C 14/35
申请日 : 20220216
申请日 : 20220216
2022-05-13 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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