等离子体调节装置、方法、生成装置和半导体加工装置
公开
摘要
本发明涉及一种等离子体调节装置、等离子体调节方法、等离子体生成装置和半导体加工装置，该等离子体调节装置包括第一支撑件、第二支撑件和锁定件；其中，第一支撑件与线圈固接；第二支撑件与腔室固接；线圈设置于腔室的外部，用于在线圈通电后，在腔室的内部产生等离子体；第二支撑件与第一支撑件相配合，且第二支撑件与第一支撑件的至少一部分的配合位置的形状为曲面，以使得第一支撑件与第二支撑件之间能够进行沿所述曲面的相对转动；锁定件用于锁定第一支撑件与第二支撑件之间的相对转动。利用本发明的等离子体调节装置、调节方法、生成装置和半导体加工装置，能够对等离子生成设备中的线圈的水平度进行快速调节。
基本信息
专利标题 ：
等离子体调节装置、方法、生成装置和半导体加工装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114599142A
申请号 ：
CN202210214097.0
公开（公告）日 ：
2022-06-07
申请日 ：
2022-03-07
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
项习飞田才忠林保璋李士昌
申请人 ：
盛吉盛（宁波）半导体科技有限公司;盛吉盛半导体科技（北京）有限公司
申请人地址 ：
浙江省宁波市鄞州区云龙镇石桥村
代理机构 ：
北京市竞天公诚律师事务所
代理人 ：
徐民
优先权 ：
CN202210214097.0
主分类号 ：
H05H1/24
IPC分类号 ：
H05H1/24 H05H1/10 H01J37/32
法律状态
2022-06-07 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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