图形生成方法、半导体器件及其制造方法和控制方法
专利权的终止
摘要
一种图形生成方法，其特征在于，读出规定布线图形的布线布局的数据和规定能够与上述布线图形连接的孔图形的孔布局的数据；在同一布线层等级内提取与图形处理区域的上述布线图形连接的孔图形；提取包括上述孔图形的第1处理区域；计算上述第1处理区域包含的上述布线图形的第1图形覆盖率；以及根据上述第1图形覆盖率在上述第1处理区域生成第1追加图形。
基本信息
专利标题 ：
图形生成方法、半导体器件及其制造方法和控制方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1790352A
申请号 ：
CN200510115614.5
公开（公告）日 ：
2006-06-21
申请日 ：
2005-11-07
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
羽多野正亮冈崎元哉和田纯一西冈岳金子尚史藤卷刚东和幸吉田健司松永范昭
申请人 ：
株式会社东芝
申请人地址 ：
日本东京都
代理机构 ：
北京市中咨律师事务所
代理人 ：
李峥
优先权 ：
CN200510115614.5
主分类号 ：
G06F17/50
IPC分类号 ：
G06F17/50 H01L21/027 G03F1/00 G03F7/00
法律状态
2017-12-22 ：
专利权的终止
未缴年费专利权终止IPC(主分类) : G06F 17/50
申请日 : 20051107
授权公告日 : 20081224
终止日期 : 20161107
申请日 : 20051107
授权公告日 : 20081224
终止日期 : 20161107
2008-12-24 ：
授权
2006-08-16 ：
实质审查的生效
2006-06-21 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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