半导体结构、器件和生成IC布局图的方法
授权
摘要
半导体结构包括第一导电段、第二导电段、第三导电段、第四导电段和第一栅极。第一导电段和第二导电段位于第一导电层中并且被配置为第一类型的第一晶体管的第一端子和第二端子。第三导电段和第四导电段位于第二导电层中，该第二导电层堆叠在第一导电层上方并且被配置为第二类型的第二晶体管的第一端子和第二端子。第一栅极在第一方向上布置在第一导电段和第三导电段与第二导电段和第四导电段之间。该栅极被配置为第一晶体管的控制端子和第二晶体管的控制端子，第一导电段沿第一方向与第三导电段偏移，并且第二导电段沿第一方向与第四导电段偏移。本发明的实施例还涉及半导体器件和生成IC布局图的方法。
基本信息
专利标题 ：
半导体结构、器件和生成IC布局图的方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN110970434A
申请号 ：
CN201910921894.0
公开（公告）日 ：
2020-04-07
申请日 ：
2019-09-27
授权号 ：
CN110970434B
授权日 ：
2022-06-07
发明人 ：
彭士玮曾健庭林威呈
申请人 ：
台湾积体电路制造股份有限公司
申请人地址 ：
中国台湾新竹
代理机构 ：
北京德恒律治知识产权代理有限公司
代理人 ：
章社杲
优先权 ：
CN201910921894.0
主分类号 ：
H01L27/092
IPC分类号 ：
H01L27/092 H01L29/423 H01L27/02 H01L21/8238
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01L
半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L27/00
由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27/02
包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的；包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27/04
其衬底为半导体的
H01L27/08
只包括有一种半导体组件的
H01L27/085
只包含场效应的组件
H01L27/088
有绝缘栅场效应晶体管的组件
H01L27/092
互补MIS场效应晶体管
法律状态
2022-06-07 ：
授权
2020-05-01 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : H01L 27/092
申请日 : 20190927
申请日 : 20190927
2020-04-07 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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