一种碳化硅籽晶重复循环利用的方法、装置
实质审查的生效
摘要

本发明涉及半导体加工技术领域,公开了一种碳化硅籽晶重复循环利用的方法、装置;包括提供碳化硅晶锭的穹顶部分,其中,所述穹顶部分具有穹顶弧面和相对的切割面,所述切割面的直径大于在后续形成的碳化硅晶圆的直径;将所述穹顶部分作为碳化硅籽晶,所述穹顶部分的穹顶弧面作为晶体生长面,为生长碳化硅单晶提供结构模板,进行碳化硅单晶生长。本发明对在传统制作碳化硅晶圆的工艺路线中不形成产品的部分进行了充分的利用,提高了源材料的利用率,降低了晶圆单片成本,有利于在大规模生产过程中降低碳化硅晶圆的成本。

基本信息
专利标题 :
一种碳化硅籽晶重复循环利用的方法、装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114457425A
申请号 :
CN202210377781.0
公开(公告)日 :
2022-05-10
申请日 :
2022-04-12
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
王明华杨孝泽朱鑫煌蒋琳张振远王恒宣丽英
申请人 :
杭州乾晶半导体有限公司
申请人地址 :
浙江省杭州市萧山区建设三路733号信息港五期一号楼205-2
代理机构 :
杭州五洲普华专利代理事务所(特殊普通合伙)
代理人 :
姚宇吉
优先权 :
CN202210377781.0
主分类号 :
C30B29/36
IPC分类号 :
C30B29/36  C30B23/00  
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C30
晶体生长
C30B
单晶生长;共晶材料的定向凝固或共析材料的定向分层;材料的区熔精炼;具有一定结构的均匀多晶材料的制备;单晶或具有一定结构的均匀多晶材料;单晶或具有一定结构的均匀多晶材料之后处理;其所用的装置
C30B29/00
以材料或形状为特征的单晶或具有一定结构的均匀多晶材料
C30B29/10
无机化合物或组合物
C30B29/36
碳化物
法律状态
2022-05-27 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : C30B 29/36
申请日 : 20220412
2022-05-10 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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