用于半导体制造的光刻装置
授权
摘要

本实用新型属于半导体制造技术领域,具体为用于半导体制造的光刻装置,包括底座,所述底座上方的一侧设置有电动推杆,所述电动推杆前后均设置有第一限位板,所述电动推杆伸缩端设置有第一推板,所述底座上方的另一侧设置有导筒,所述导筒内设置有夹杆,所述夹杆远离所述电动推杆的一端设置有拉环,所述导筒与所述夹杆之间设置有弹簧,所述夹杆上设置有卡环。通过本实用新型便于将待光刻半导体原材料传送至光刻处并夹紧使其充分固定,降低操作人员的劳动强度;便于根据加工要求调节本装置内零部件的工作频率,使其适应多种加工要求;便于操作人员维护,易损件便于更换,能够降低生产成本。

基本信息
专利标题 :
用于半导体制造的光刻装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202220172315.4
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2022-01-22
授权号 :
CN216561391U
授权日 :
2022-05-17
发明人 :
姬晨
申请人 :
姬晨
申请人地址 :
广东省广州市天河区汇景北路58号1603房
代理机构 :
代理人 :
优先权 :
CN202220172315.4
主分类号 :
G03F7/20
IPC分类号 :
G03F7/20  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F7/00
图纹面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工艺;图纹面照相制版用的材料,如:含光致抗蚀剂的材料;图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2022-05-17 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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