锗/硅红外光学镜头(片)镀类金刚石碳膜的方法
专利权的终止未缴年费专利权终止
摘要

本发明涉及在锗/硅光学镜头(片)上镀红外超硬膜技术,具体的就是镀类金刚石碳膜,该方法是在射频溅射机中,首先用氩离子束轰击基片以净化其表面,然后充入氩气和丁烷的混合气体,选择适当的射频电压产生辉光放电,使混合气体电离,在电场作用下,使正碳离子撞击量以水冷负电极上的基片表面以沉积薄膜,从而获得类金刚石碳膜。用本发明方法所得的类金刚石碳膜,具有机械强度高,耐磨性能好,红外特性优良,且适于镀制大面积光学透镜等优点,适用于一切红外光学镜头(片)及光学仪器窗口的镀膜。

基本信息
专利标题 :
锗/硅红外光学镜头(片)镀类金刚石碳膜的方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN1033653A
申请号 :
CN87105946.0
公开(公告)日 :
1989-07-05
申请日 :
1987-12-22
授权号 :
CN1020158C
授权日 :
1993-03-24
发明人 :
李忠奇刘成赞李正芬左名光金惠忠
申请人 :
昆明物理研究所
申请人地址 :
云南省昆明市北郊教场东路32号
代理机构 :
云南省专利事务所
代理人 :
李灿
优先权 :
CN87105946.0
主分类号 :
C23C14/06
IPC分类号 :
C23C14/06  C23C14/40  G02B1/10  
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C23
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/06
以镀层材料为特征的
法律状态
1996-02-07 :
专利权的终止未缴年费专利权终止
1993-03-24 :
授权
1991-05-08 :
实质审查请求已生效的专利申请
1989-07-05 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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