锗/硅红外光学镜头(片)镀类金刚石碳膜的方法
专利权的终止未缴年费专利权终止
摘要
本发明涉及在锗/硅光学镜头(片)上镀红外超硬膜技术，具体的就是镀类金刚石碳膜，该方法是在射频溅射机中，首先用氩离子束轰击基片以净化其表面，然后充入氩气和丁烷的混合气体，选择适当的射频电压产生辉光放电，使混合气体电离，在电场作用下，使正碳离子撞击量以水冷负电极上的基片表面以沉积薄膜，从而获得类金刚石碳膜。用本发明方法所得的类金刚石碳膜，具有机械强度高，耐磨性能好，红外特性优良，且适于镀制大面积光学透镜等优点，适用于一切红外光学镜头(片)及光学仪器窗口的镀膜。
基本信息
专利标题 ：
锗/硅红外光学镜头(片)镀类金刚石碳膜的方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1033653A
申请号 ：
CN87105946.0
公开（公告）日 ：
1989-07-05
申请日 ：
1987-12-22
授权号 ：
CN1020158C
授权日 ：
1993-03-24
发明人 ：
李忠奇刘成赞李正芬左名光金惠忠
申请人 ：
昆明物理研究所
申请人地址 ：
云南省昆明市北郊教场东路32号
代理机构 ：
云南省专利事务所
代理人 ：
李灿
优先权 ：
CN87105946.0
主分类号 ：
C23C14/06
IPC分类号 ：
C23C14/06 C23C14/40 G02B1/10
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/06
以镀层材料为特征的
法律状态
1996-02-07 ：
专利权的终止未缴年费专利权终止
1993-03-24 ：
授权
1991-05-08 ：
实质审查请求已生效的专利申请
1989-07-05 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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