利用分别生成的多种活性气体制备大面积沉积膜的装置
专利权的终止未缴年费专利权终止
摘要
制备多组分大面积沉积膜的装置，在各自的激活塞中分别激活两种或多种膜原料气体，激活气体通过各自的气体引入口分别引入到成膜室混合，在成膜室中的基片表面附近发生反应，从而在基片上形成所述沉积膜，气体引入口是长方形或椭圆形，平行放置，其长轴至少是短轴的两倍，间距小于短轴，激活室中有杆状微波发射天线，或有催化作用的金属材料做成的丝，或产生射频电场的一对板状电极作为产生分解能的装置。
基本信息
专利标题 ：
利用分别生成的多种活性气体制备大面积沉积膜的装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1040063A
申请号 ：
CN89104798.0
公开（公告）日 ：
1990-02-28
申请日 ：
1989-07-14
授权号 ：
CN1023239C
授权日 ：
1993-12-22
发明人 ：
松山深照
申请人 ：
佳能株式会社
申请人地址 ：
日本东京
代理机构 ：
中国国际贸易促进委员会专利代理部
代理人 ：
刘建国
优先权 ：
CN89104798.0
主分类号 ：
C23C16/48
IPC分类号 ：
C23C16/48 C23C16/54
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16/00
通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积工艺
C23C16/44
以镀覆方法为特征的
C23C16/48
辐射法，例如光分解、辐射分解、粒子辐射
法律状态
2005-09-14 ：
专利权的终止未缴年费专利权终止
2002-04-24 ：
其他有关事项
1993-12-22 ：
授权
1991-10-23 ：
实质审查请求已生效的专利申请
1990-02-28 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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