垂直磁记录载体、该载体的制造方法以及记录重放方法
专利权的终止未缴年费专利权终止
摘要
本发明提供一种磁记录载体、及其制造方法和录放方法。这种载体包括淀积在基片上的底层磁膜和沉积在该膜上的垂直磁备向异性膜。底层磁膜由Fe，Fe-Co合金和Fe-Ni合金选出的任一种材料构成，而垂直磁各向异性膜由Fe-Co-O或Co-O材料制成。根据本发明所提供的垂直磁记录载体，在重放输出、和基片的附着性及使用寿命诸方面部有明显的改进。
基本信息
专利标题 ：
垂直磁记录载体、该载体的制造方法以及记录重放方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1040697A
申请号 ：
CN89106557.1
公开（公告）日 ：
1990-03-21
申请日 ：
1989-07-20
授权号 ：
CN1019240B
授权日 ：
1992-11-25
发明人 ：
斎木幸治那须昌吾松本贤次
申请人 ：
钟渊化学工业株式会社
申请人地址 ：
日本大阪市
代理机构 ：
中国专利代理(香港)有限公司
代理人 ：
叶凯东
优先权 ：
CN89106557.1
主分类号 ：
G11B5/85
IPC分类号 ：
G11B5/85
IPC结构图谱
G
G部——物理
G11
信息存储
G11B
基于记录载体和换能器之间的相对运动而实现的信息存储
G11B5/00
借助于记录载体的激磁或退磁进行记录的；用磁性方法进行重现的；为此所用的记录载体
G11B5/84
专用于制造记录载体的方法或设备
G11B5/85
用蒸汽沉积法涂一带磁性层支承的
法律状态
1997-09-10 ：
专利权的终止未缴年费专利权终止
1997-09-03 ：
专利权的终止未缴年费专利权终止
1993-09-01 ：
授权
1992-11-25 ：
审定
1991-10-23 ：
实质审查请求已生效的专利申请
1990-03-21 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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