具有垂直汽相淀积工艺形成的发射极的非平面场发射器件
专利申请的驳回
摘要
具有锥形发射极112，208的冷阴极场发射器件，发射极用基本垂直(但不绝对垂直)的汽相淀积过程109形成，其中，衬底101，201无需相对汽相淀积靶旋转。汽相淀积过程形成一封装层111，207，它可用作完成器件中的电极或被去掉以利其它层的形成。
基本信息
专利标题 ：
具有垂直汽相淀积工艺形成的发射极的非平面场发射器件
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1057125A
申请号 ：
CN91100957.4
公开（公告）日 ：
1991-12-18
申请日 ：
1991-02-08
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
戈罗肯·赫伯特凯恩·罗伯特
申请人 ：
莫托罗拉公司
申请人地址 ：
美国伊利诺斯
代理机构 ：
中国国际贸易促进委员会专利代理部
代理人 ：
乔晓东
优先权 ：
CN91100957.4
主分类号 ：
H01J9/02
IPC分类号 ：
H01J9/02 H01J1/30 H01J19/24 H01J21/00
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01J
放电管或放电灯
H01J9/00
专用于制造放电管、放电灯及其部件的设备和方法；从放电管或灯回收材料
H01J9/02
电极或电极系统的制造
法律状态
1994-07-06 ：
专利申请的驳回
1991-12-18 ：
公开
1991-10-30 ：
实质审查请求已生效的专利申请
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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