连续形成大面积膜的微波等离子体化学汽相淀积方法及设备
专利权的终止未缴年费专利权终止
摘要
微波等离子CVD方法用以连续地形成大面积的长的功能性淀积膜，包括：使一衬底腹板从释放机构到卷收机构在纵向连续地运动；在运动中将衬底腹板弯曲和突出形成一圆柱形部分作为膜生成腔的圆周墙；将原料气体由供气装置引入到上述膜生成腔内；同时利用微波施加器装置将微波能量辐射到上述膜生成腔内，以在上述的膜生成腔内产生微波等离子，借此在暴露在上述微波等离子中的上述连续运动的圆周墙的内墙表面上形成淀积膜。
基本信息
专利标题 ：
连续形成大面积膜的微波等离子体化学汽相淀积方法及设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1048568A
申请号 ：
CN90103311.1
公开（公告）日 ：
1991-01-16
申请日 ：
1990-06-28
授权号 ：
CN1030722C
授权日 ：
1996-01-17
发明人 ：
松山深照狩谷俊光藤岡靖武井哲也中川克巳金井正博越前裕
申请人 ：
佳能株式会社
申请人地址 ：
日本东京都
代理机构 ：
中国国际贸易促进委员会专利商标事务所
代理人 ：
冯庚瑄
优先权 ：
CN90103311.1
主分类号 ：
C23C16/48
IPC分类号 ：
C23C16/48 C23C16/24
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16/00
通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积工艺
C23C16/44
以镀覆方法为特征的
C23C16/48
辐射法，例如光分解、辐射分解、粒子辐射
法律状态
2005-08-31 ：
专利权的终止未缴年费专利权终止
2002-04-24 ：
其他有关事项
1996-01-17 ：
授权
1992-11-11 ：
实质审查请求已生效的专利申请
1991-01-16 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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