本实用新型公开了一种等离子体化学气相淀积装置，该装置包括微波功率源及传输部件101、微波谐振腔体102、工艺室与样品台部件103、真空部件104、气路部件105、自动传片部件106、控制部件107，其中，微波谐振腔体内设有等间隔排列的磁场装置306，样品台部件设在工艺室内部，微波谐振腔体、真空部件、自动传片部件分别与工艺室809相连，微波功率源及传输部件与微波谐振腔体相连，控制部件通过接口分别控制微波功率源及传输部件、工艺室与样品台部件、真空部件、气路部件的工作状态，完成薄膜的淀积工艺过程。本实用新型具有大面积均匀性好、淀积速率高、自动化程度和生产效率高、可靠性好、功耗小、稳定性和重复性好的优点，可用作制备微电子薄膜的设备。