一种用于化学气相淀积的气体导入装置

专利权的终止

摘要

本实用新型提出了一种用于化学气相淀积的气体导入装置。所述气体导入装置呈环状，通常放置在化学气相淀积反应器反应腔的上部外周边。该气体导入装置由一个或多个气体导入单元组成，可以实现多股气流由化学气相淀积反应器圆柱形反应腔的外围，沿平行于化学气相淀积反应器圆柱形反应腔内水平放置的衬底载盘表面或与所述衬底载盘表面成一定夹角的径向方向，由外向内导入反应腔内；所述气体导入装置具结构简单，操作方便，制造和使用成本低等优点，适用于大直径化学气相淀积反应器反应腔。

基本信息

专利标题：

一种用于化学气相淀积的气体导入装置

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN200820134161.X

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2008-09-10

授权号：

CN201313934Y

授权日：

2009-09-23

发明人：

李刚

申请人：

李刚

申请人地址：

518055广东省深圳市南山区西丽镇留仙大道东南国丽城花园5栋L1002

代理机构：

深圳市顺天达专利商标代理有限公司

代理人：

林俭良

优先权：

CN200820134161.X

主分类号：

C23C16/455

IPC分类号：

C23C16/455