化学气相淀积设备、陶瓷加热盘
授权
摘要
本实用新型提供一种化学气相淀积设备、陶瓷加热盘。所述陶瓷加热盘包括加热盘体、陶瓷管，其特征在于，所述加热盘体包括由下至上依次层叠设置的第一陶瓷体、加热片及第二陶瓷体，经过烧结固定成为一体；所述第一陶瓷体的导热率低于所述第二陶瓷体的导热率。化学气相淀积设备包括该陶瓷加热盘。本实用新型加热片产生的热量大部分的向上传递，使得加热盘整体电阻设置更加简单且容易操作，减少干扰因素，在晶圆刻蚀或沉积过程能更好的控制温度。
基本信息
专利标题 ：
化学气相淀积设备、陶瓷加热盘
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201920708388.9
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-05-17
授权号 ：
CN210215543U
授权日 ：
2020-03-31
发明人 ：
何琪娜刘先兵
申请人 ：
苏州珂玛材料科技股份有限公司
申请人地址 ：
江苏省苏州市高新区漓江路58号6#厂房
代理机构 ：
北京律和信知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
武玉琴
优先权 ：
CN201920708388.9
主分类号 ：
C23C16/46
IPC分类号 ：
C23C16/46
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16/00
通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积工艺
C23C16/44
以镀覆方法为特征的
C23C16/46
以加热基体的方法为特征的
法律状态
2020-03-31 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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