工作状态下半导体激光器中电场分布的测量方法及装置
专利权的终止未缴年费专利权终止
摘要
连续波电光检测技术测量半导体激光器场分布的方法及装置：方法特征是探测激光垂直解理面透射处于工作状态的被测半导体激光器，其本身发出的激光经分离和/或滤去；装置特征是半导体激光器与检偏器间增设显微镜系统、分光和/或滤光装置，给半导体激光器设置可调偏置电流源。该装置可直接测量半导体激光器的场分布，确定其载流子限制、电流扩展特性，为设计和制作提供依据和监控。优点是非破坏无干扰，分辨率和灵敏度高。
基本信息
专利标题 ：
工作状态下半导体激光器中电场分布的测量方法及装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1055065A
申请号 ：
CN91101294.X
公开（公告）日 ：
1991-10-02
申请日 ：
1991-02-26
授权号 ：
CN1016998B
授权日 ：
1992-06-10
发明人 ：
朱祖华
申请人 ：
浙江大学
申请人地址 ：
310027浙江省杭州市玉泉
代理机构 ：
浙江大学专利代理事务所
代理人 ：
崔勇才
优先权 ：
CN91101294.X
主分类号 ：
G01R29/14
IPC分类号 ：
G01R29/14 G01J1/00
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01R
测量电变量；测量磁变量
G01R29/00
不包括在G01R19/00至G01R27/00各组中的电量的测量或指示装置
G01R29/12
静电场的测量
G01R29/14
电场分布的测量
法律状态
1993-12-29 ：
专利权的终止未缴年费专利权终止
1993-02-17 ：
授权
1992-06-10 ：
审定
1991-10-02 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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