制作单层或多层电路图形的方法
专利权的终止未缴年费专利权终止
摘要
在有机聚合物层中制作图形的方法，其步骤包括：在基片上涂布无图形的第一层，包含酸值为20-600的固体酸性有机聚合物在第一种增塑剂的固体分散体；在第一层上涂布第二图形层，包含有机碱溶于挥发性溶剂而形成的溶液；加热该图形层以除去挥发性溶剂并使第二层的增塑剂和有机碱扩散进入位于下部的酸性聚合物层区域；和用水溶液洗涤各层以使支承图形区域的酸性聚合物增溶并使增溶的聚合物和增塑剂从该区域中除去。
基本信息
专利标题 ：
制作单层或多层电路图形的方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1071031A
申请号 ：
CN92112076.1
公开（公告）日 ：
1993-04-14
申请日 ：
1992-09-30
授权号 ：
CN1032614C
授权日 ：
1996-08-21
发明人 ：
J·J·费尔滕S·H·马
申请人 ：
纳幕尔杜邦公司
申请人地址 ：
美国特拉华州
代理机构 ：
中国专利代理(香港)有限公司
代理人 ：
吴大建
优先权 ：
CN92112076.1
主分类号 ：
H01L27/01
IPC分类号 ：
H01L27/01 H01L49/02 H05K3/10 H05K3/12
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01L
半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L27/00
由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27/01
只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
法律状态
2003-11-19 ：
专利权的终止未缴年费专利权终止
2002-06-12 ：
其他有关事项
1996-08-21 ：
授权
1994-08-17 ：
实质审查请求的生效
1993-04-14 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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